设备灵活性高 ：
不同的腔室尺寸，内径在 710 mm 到 2810 mm 之间。这意味着我们可提供相应的腔室以完美地匹配我们客户定义的装载容量和基底尺寸。
系统可针对 DUV 应用进行优化 ：
针对 193 nm 波长光刻应用优化的系统解决方案。这些解决方案包括经过特殊处理的腔室表面、精选的材料和个性化的部件配置以确保极低的镀膜损耗。这些措施在生成 DUV 应用中所需的具有高反射率的无偏移稳定镜面镀膜的氧化物镀膜应用中也至关重要。
用于 IR 应用的系统的可用性：
为满足 IR 应用的特殊要求，设备的设计可进行完美地调适并使其部件进行匹配从而应对大量的 IR 镀膜材料。可在整个表面和曲面上以极佳的层性能对需要良好均匀性的平坦和曲率极高的基底进行镀膜。
