磁控溅射光学镀膜机

设备介 绍

采用磁控溅射技术，制备截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、AR膜、硬质AR膜、HR膜、AS/AF膜、AR+DLC+AS/AF膜、ITO膜、红外AR膜等。

应用领域

广泛应用于光学镀膜、3D车载中控屏超硬AR膜、手机相机高清光学镜头超硬AR膜，手机后盖NCVM颜色膜等领域

核心技术

稳定的溅射反应镀膜技术 
公司特有的靶管结构设计，多段气路控制技术，恒压控制气量，可实现稳定控制磁控溅射速率，使用在线实时监测膜厚设计，保证了膜层的均匀性和产品的一致性，实现各种气体的反应膜层的均匀和颜色的一致。

设备组成

◆真空室尺寸：VSD 1621 （1600*2100） 
                      VSD 1821 （1800*2100） 
                      VSD 2527（2500*2700）
◆真空系统：超低温冷冻单元（达到-135°以下）机械泵（RP）+罗茨泵（MBP）+分子泵（TMP）
◆工艺电源：中频电源
◆控制系统：进口可编程控制器、触摸屏